Az optikai szál polírozó folyadék nagy tisztaságú, alacsony fémtartalmú ion polírozó termék, amelyet speciális eljárással állítanak elő, nagy tisztaságú szilíciumpor nyersanyagként. Széles körben használják különféle anyagok nano szintű, nagy síkú polírozásához. Mint például: szilícium ostyák, összetett kristályok, precíziós optika, drágakövek stb. Polírozása
Hozzávalók
SiO2, Na2O, nehézfém-szennyeződések
Hatály
Különböző anyagok nanoszintű, nagy síkú polírozása
Jellemzők
Magas polírozási arány, nagy tisztaság stb.
Különböző polírozási követelmények szerint különböző részecskeméretű (10 ~ 150 nm) termékekre osztható. A pH-érték különbsége szerint felosztható savas polírozó folyadékra és lúgos polírozó folyadékra.
Jellemzők
n Nagy polírozási sebesség, nagy méretű kolloid szilícium-dioxid részecskék alkalmazásával a nagy sebességű polírozás elérése érdekében (150 nm-t lehet előállítani)
n Irányítható részecskeméret, a különböző igényeknek megfelelően, különböző részecskemérettel (10-150 nm) rendelkező termékek állíthatók elő
n Nagy tisztaságú (Cu-tartalom kevesebb, mint 50 ppb), hatékonyan csökkentve az elektronikai termékek szennyeződését
Nagy simaságú feldolgozás, ez a termék SiO2 kolloid részecskéket használ a polírozáshoz, amelyek nem okoznak fizikai sérüléseket a feldolgozott részeken, és nagy simaságú feldolgozást érnek el
a termék összetétele
| Hozzávalók | Tartalom (w%) |
| SiO2 | 15~30 |
| Na2O | ≤0.3 |
| Nehézfém szennyeződések | ≤50 ppb |
Alkalmazás mező
1. Az optikai kommunikáció területén a cég által speciálisan az optikai szálas csatlakozókhoz kifejlesztett polírozó termékekkel ultra finom polírozó hatást érhet el. Polírozás után a csatlakozó végén nincs karcolás és hiba, a 3D index és a reflexió csillapítási indexe eléri a nemzetközi szabványokat.
2. A merevlemez szubsztrátok polírozásához a SiO2 csiszolóanyag gömb alakú, előnye az egyenletes szemcseméret, a jó diszperzió és a nagy síkolási hatékonyság.
3. Szilícium ostyák, zafír és más félvezető és szubsztrát anyagok durva polírozása és finom polírozása, nagy polírozási sebességgel, polírozás után könnyen tisztítható, alacsony felületi érdességgel, és nagyon kis teljes vastagság-eltéréssel (TTV) minőségi felületet nyerhet.
4. Más területeken, például rozsdamentes acél, optikai üveg stb. Történő alkalmazás esetén a polírozás után jó polírozó hatás érhető el
